电磁场 PLL

物理层面降低器件或走线电容比较困难， 需要设法将电容电气特性规避掉， 来解决问

题。 Kleveland 等人设计出分布式 ESD 保护系统， 如下图， 一个四段 ESD 保护结构 CPW， 这

种结构通过调整 CPW 特征阻抗 Z0， 来和源端、 负载端进行阻抗匹配， 避免了早期 ESD 大电

容引起的阻抗不连续。 Z0 调整不但考虑 CPW 的电容、 电感效应， 还要包括 ESD 电容， 具体

计算公式为： Z0=sqrt（Lcpw/（Cesd ***w））。

允许用户自行转化ITF/IRCX格式的工艺制程文件，生成包含介质层、金属和衬底信息以及图层映射信息的profile文件来进行电磁场和器件综合；

Profile文件中包含了介质、金属层、衬底等的物理特性，包含了间距和宽度等基本设计规则，以及与virtuoso布局之间的层映射信息。

软件转换profile时，考虑到Foundries的加工版图效应，所以会在profile中调用Foundries的版图效应表，保证结果尽量和实际测量结果更为接近。

软件提供完整的profile生成流程说明文档或者手册，保证用户可以自主完成转换。

PeakView产品应用方向与领域：

1.射频、微波、毫米波集成电路设计：

5G通讯、物联网、毫米波雷达、通信、消费电子、传感器、WIFI，蓝牙、北斗导航等领域

2.高速模拟电路设计与验证：AD/DA、Serdes

合作伙伴及主要客户

PeakView自诞生（2003年）至今已有将近17年的历史，现在已经发展成为******的EM软件，与各大Foundry以及Fabless保持着紧密的合作，通过客户的大量验证与反馈，软件功能也在不断地丰富，PeakView平均每2个月就会release一个版本。

主要的客户有：

1.Foundry用户：T***C、T***C，Global Foundries，Samsung，Vanguard，Jazz，UMC 等；

2.Fabless：高通、TI、Inphi、IDT、华为、ZTE、紫光展锐等；

3.高校：Berkeley， Stanford，Michigan，清华大学、复旦大学等；